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        CIF粉體等離子清洗機

        產品參數

        CIF專為處理粉體如粉狀、顆粒狀材料樣品而設計的粉體專用等離子清洗機,可以高效率地處理微細的甚至分子級別的超細粉體材料,改變傳統真空等離子清洗機無法處理粉體樣品的問題。
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        詳情
        CIF粉體等離子清洗機
        CPCP3/plus
        生產廠家
        774次
        2024-03-18

        產品詳情

        CIF 推出的專為處理粉體如粉末、顆粒狀材料樣品而設計的粉體專用等離子清洗機,可以高效率地處理微細的甚至分子級別的超細粉體材料,改變傳統真空等離子清洗機無法處理粉體樣品的問題。同時可實現 常規等離子清洗。

        粉體等離子清洗機原理:

        粉體等離子清洗機就是在常規等離子清洗機真空腔內,放置可旋轉并帶攪 拌的樣品瓶,通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產生高能量的無序的等離子體,作用在樣品瓶內粉體樣品上,通過等離子體轟擊被清洗粉體材料表面, 改變材料表面性質,優化材料表面性能。等離子體作用在粉體上,可以有目的地改變粉體的物理、化學性質,在保持粉體材料原有性能的前提下,賦予其表面新的性能,使其表面性質由疏水性變為親水性或由親水性變為疏水性,從而改善粉體粒子表面的浸潤性,增強粉體粒子在介質中的界面相容性,使粒子容易分散在水中或有機化合物中。

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